基本配置
一、離子清洗機(jī)概述
離子清洗機(jī),又名等離子清洗機(jī),是通過(guò)等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的清洗設(shè)備。
自1952年以來(lái),“TDC公司”就一直給電子行業(yè)提供高質(zhì)量的生產(chǎn)設(shè)備,并且由于我們優(yōu)質(zhì)的售后服務(wù)和技術(shù)支持而獲得極高的聲譽(yù)。此外,“TDC公司”走在世界清洗技術(shù)的前列,生產(chǎn)創(chuàng)新、優(yōu)質(zhì)、可靠的產(chǎn)品,同時(shí)又不對(duì)環(huán)境造成任何不良的影響。Nu/CLEAN型生產(chǎn)線(xiàn)水洗機(jī)是當(dāng)今同類(lèi)產(chǎn)品市場(chǎng)上最安全、最安靜、最節(jié)能的產(chǎn)品?!癟DC公司”還是第一個(gè)生產(chǎn)混合動(dòng)力水洗機(jī)的公司, 供選用的混合動(dòng)力Nu/CLEAN型水洗機(jī)因?yàn)槭褂锰烊粴舛皇请娔軄?lái)加熱水洗機(jī)里面的水而可以大大節(jié)省能源成本。
Nu/CLEAN型水洗機(jī)除了擁有這些技術(shù)和環(huán)保優(yōu)勢(shì)之外,它還具有容易使用和保養(yǎng)的特點(diǎn)。觸摸屏控制系統(tǒng)使用起來(lái)非常直觀、簡(jiǎn)單,可以控制和監(jiān)督水洗機(jī)的所有重要功能。警報(bào)和保養(yǎng)顯示屏讓操作員能夠馬上知道需要采取什么措施。水箱、機(jī)柜以及控制系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)令日常保養(yǎng)工作既簡(jiǎn)單又快捷。
“TDC公司”擁有幾十年的水洗機(jī)生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和遍布各地的客戶(hù)服務(wù)網(wǎng)絡(luò),是滿(mǎn)足您清洗要求的最佳選擇。
二、離子清洗機(jī)的清洗原理
無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)→氣相物質(zhì)被吸附在固體表面→被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子→產(chǎn)物分子解析形成氣相→反應(yīng)殘余物脫離表面。
三、離子清洗機(jī)的清洗特點(diǎn)
1、離子清洗機(jī)不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等,并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。
2、容易采用數(shù)控技術(shù),自動(dòng)化程度高。
3、具有高精度的控制裝置,時(shí)間控制的精度很高。
4、正確的等離子體清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證。
5、在真空中進(jìn)行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不被二次污染。
四、離子清洗機(jī)的清洗分類(lèi)及性能
離子清洗機(jī)主要通過(guò)反應(yīng)類(lèi)型和激發(fā)頻率兩個(gè)方面來(lái)分類(lèi)。
1、反應(yīng)類(lèi)型分類(lèi)
等離子體與固體表面發(fā)生反應(yīng)可以分為物理反應(yīng)(離子轟擊)和化學(xué)反應(yīng)。
1)物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子轟擊待清洗表面,使污染物脫離表面最終被真空泵吸走。物理反應(yīng)為主的等離子體清洗,也叫做濺射腐蝕(SPE)或離子銑(IM),其優(yōu)點(diǎn):本身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng),清潔表面不會(huì)留下任何的氧化物,可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性。缺點(diǎn):對(duì)表面產(chǎn)生了很大的損害,會(huì)產(chǎn)生很大的熱效應(yīng),對(duì)被清洗表面的各種不同物質(zhì)選擇性差,腐蝕速度較低。典型的等離子體物理清洗工藝是氬氣等離子體清洗。
2)化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮發(fā)性的物質(zhì),再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)?;瘜W(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗的優(yōu)點(diǎn):清洗速度較高、選擇性好、對(duì)清除有機(jī)污染物比較有效,缺點(diǎn):表面產(chǎn)生氧化物。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過(guò)等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?;顫姡菀着c碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng),產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物,去除表面的污染物。
2、激發(fā)頻率分類(lèi)
等離子態(tài)的密度和激發(fā)頻率的關(guān)系式: nc=1.2425×108v2 ,其中nc為等離子態(tài)密度(cm-3),v為激發(fā)頻(Hz)。 等離子體激發(fā)頻率分為:頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體,13.56MHz的等離子體為射頻等離子體,2.45GHz的等離子體為微波等離子體。超聲等離子體的自偏壓為1000V左右,射頻等離子體的自偏壓為250V左右,微波等離子體的自偏壓很低,只有幾十伏。超聲等離子體發(fā)生的反應(yīng)為物理反應(yīng),射頻等離子體發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng),微波等離子體發(fā)生的反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。
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